atdunbg
3907868417
诊断方法：日志打印 lightVP/lightProj/lightView 矩阵分解定位。
修复前 lightVP 在原点处 z=-14.70（应 ∈[-1,1]）——深度全部越界被裁。
根因：remap 公式把偏移量 0.5 错加进了 z 缩放系数：
错：M[2][2] = M[2][2]*0.5 + 0.5 （0.5 混入 z 系数）
对：M[2][2] *= 0.5 （z' = 0.5z + 0.5w，偏移属于 w 列）
M[3][2] = M[3][2]*0.5 + 0.5
正交投影 w=1，错误的 0.5*z 项使深度随距离线性发散，shadow map
内所有深度越界，采样对比永不成立。透视投影同错（被 w 除法稀释
成近似常数偏移，此前一直"看起来正常"）。修复 Camera + lightProj。
同批修复：
- 深度 bias 1.25 → 0.0025/0.003（NDC 空间，1.25 会饱和全部深度）
- 光源位置 lightDir*30 → -lightDir*30（原方向反了：从地下往上照）
- lookAt 垂直光 up 退化（叉积为零 → NaN 矩阵）
- 地面改纯色纹理（Texture::CreateSolidColor，1x1 程序化生成）
矩阵诊断验证：lightVP 原点深度 -14.70 → 0.30，物体(0.30) < 地面(0.32)
遮挡关系正确。validation 零错误零警告。